體噴射的方式用激光轟擊靶材料產生等離子體，等離子體發euv輻射，euv輻射經過由周期性多層薄膜反射鏡組成的聚焦系統入射到反射掩模上．射出的euv光波再通過反射鏡組成的投影系統，將反射掩模上的集成電路的幾何圖形成像到硅片上的光刻膠中，從而形成集成電路所需要的光刻圖形。”

“理論上，這個過程沒有問題。”何星舟點點頭。

“但問題在于如何在提高euv光源瓦數的同時，降低等離子氣氛中微粒、高速粒子和其它污染物。”嚴蕊頭疼道，“不然光源就會迅速惡化。還有，極紫外投影光刻系統使用了反射式掩模。”

“我們的euv掩膜缺陷仍高達ldefect／2，檢測機臺的制造水平也要得到進一步提升。”

“檢測機臺的問題，我想盧教授那邊的團隊應該能解決。”何星舟說道，“至于極紫外光源的問題，我想到了一個解決方案。”

“什么方案？”這群院士和專家們都看著他。

何星舟說道：“光源瓦數的提升，可以用電能！”

“在高功率激光加熱負載體形成等離子體并且多次反射后，形成了極紫外光源，這個時候，再設計一個放電反應室，讓等離子體進一步轉化，輻射出亮度更高，更純凈的極紫外線，如果還有多層反射鏡，evu的納米刻度會進一步提升，就有可能滿足3納米制程的要求！”

其實這就是解決方案，只不過何星舟說的委婉了一點。

“這樣做我們也設想過！”嚴蕊似乎有點想法了，她問道：“這個電能反應室……”

“我有設計圖！”何星舟說道。

“真的？！”眾人聽到他這么說，精神為之一振，趕緊說道：“讓我們看看！”

“去會議室！”何星舟笑道。

眾人一起前往會議室，何星舟呼喚鹿米，讓她打開設計圖紙，并且進行講解。

當他講完，全場鴉雀無聲。每個人都在思考和計算。

足足過了十分鐘，嚴蕊第一個站起來，滿心歡喜的說道：“可以！我初步計算，這個方案完全有可能做到我們要求的高亮度極紫外光源！”

“對，我的看法也是一樣！”有一位老院士站起來，他興奮道：“這個放電反應室，真是神來之筆！光源折射損耗后，電能將等離子轉化，形成新的高能等離子體，不僅沒有光污染，還讓極紫外線的純凈度進一步提升，這樣做出來的光刀，只怕能達到世界之最！”

“何總工，你真是個天才，這樣的方案也能想到！”

“那還等什么，我們趕緊去試試吧！”專家們都忍不住了。

“這就開始！”何星舟笑道，他知道，這次嘗試必定成功！這可是自己解鎖光刻機技術后，思考和計算了一個多月，才完成的設計！

……

燈國，“復仇者聯盟”正在召開大會。

這可不是動漫和電影里的復仇者聯盟，而是由白鷹領頭，組建的euv光刻機技術聯盟。

由英特爾、ad、摩托羅拉和ib等業界巨頭，加上隸屬于白鷹的桑迪亞國家實驗室和勞倫斯利弗莫爾國家實驗室組成！

除了白鷹有一個，西方聯盟也有一個類似的，由三十多個國家，數百個企業組成，全部都是光刻機及芯片的相關產業。

風車國的阿斯麥公司能生產出世界上最頂級的極紫外光刻機，就是因為獲得了他們的支持！

眼下，因為那“全面合作”協議，白鷹的euv聯盟和西方聯盟的euv聯盟開始合作，共同討論“合作細節”。

聯盟會長福斯特坐在首席，他是白鷹統領不久前剛任命的，其風格做派要比上一任強硬許多！

與會的成員，全都是來自國際巨頭的代表！可以說，他們這些公司，就代表了全世界最頂級的光刻